|
|
Прессе были показаны прототипы промышленных устройств, реализующих литографический процесс для производства микропроцессоров, способных работать на частотах до 10 ГГц, с плотностью упаковки элементов в 10 раз большей, нежели в существующих сегодня массовых продуктах. В основу нового инструментария положена фотолитография с использованием «жёсткого ультрафиолета» (что отражено в названии коалиции) – коротковолновой части ультрафиолетового диапазона спектра, дающего возможность рисовать на фоточувствительных подложках сверхмелкие детали. В настоящее время технология пребывает в ранней стадии своего развития, и ожидать скорого пришествия десятков гигагерц в персоналки не приходится. Группа, включающая в себя компании AMD, Intel, Micron Technologies, а со стороны науки – Sandia National Labs и Lawrence Livermore National Labs – планирует провести бета-тестирование производственного оборудования лишь к 2004 году, а в 2005 году довести его до стадии коммерческой эксплуатации. Источник: Журнал "Компьютерра" |
|